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OTSUKA 大塚电子 Zeta 电位・粒径测试系统 ELSZneoSE

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OTSUKA 大塚电子 Zeta 电位・粒径测试系统 ELSZneoSE

品牌:日本大塚电子/Otsuka

产地:日本

型号:ELSZneoSE

400-616-7676转3323

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核心参数

测量原理
电泳光散射法
电位值范围
-200~+200mV
粒度检测范围
0.6nm‑10μm
PH应用范围
2‑12
使用温度范围
0‑90℃
温度分辨率
0.1℃
准确性
粒径:±2%;Zeta 电位:±2mV
重复性
粒径≤±2%;Zeta 电位≤±2mV
温度范围
0‑90℃,温控精度 ±0.1℃
测量时间
10‑120s,随样品状态变化
样品量范围
标准池数百 μL;选配超微量池最低 3μL
电导率
0‑200mS/cm

仪器介绍

OTSUKA 大塚电子 Zeta 电位・粒径测试系统 ELSZneoSE
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特色:

可根据应用添加功能(分子量测量、颗粒浓度测量、微观流变测量、凝胶网格结构分析、多角度颗粒直径测量)

使用标准流单元连续测量颗粒直径和ζ势

能够测量颗粒直径和 ζ电能,范围范围广泛,从稀释溶液到浓缩溶液(~40%)

能够在高盐度条件下测量平面样品中的ζ电位

可在0~90°C的宽温范围内进行测量

温度梯度函数支持蛋白质及其他材料的变性和相变温度分析

通过实际测量细胞内的电渗透流动和绘图分析,提供高度精确的ζ电位测量结果。

可安装荧光切割滤光片(可选)

目的

它非常适合基础和应用研究,不仅涉及细颗粒,还涉及薄膜和平面样品的表面科学,涵盖界面化学、无机材料、生命科学、半导体、高分子、生物学、药学和医学等领域。

新功能材料领域:

燃料电池相关(碳纳米管、富勒烯、纤维素纳米纤维、功能薄膜、催化剂、纳米金属)、生物纳米相关(纳米胶囊、树枝树、DDS、生物纳米颗粒)、纳米气泡、生物相容材料等。

陶瓷与色料行业

陶瓷(二氧化碳、氧化铝、二氧化钛等) 无机溶胶的表面改性、分散与凝集控制颜料的扩散与凝固

控制(碳黑、有机颜料) 浆料样品色彩滤光器关于浮游矿物藏品介质吸附的研究

半导体领域:阐明硅晶圆表面异质附着机制;研析磨料与添加剂及晶圆表面的相互作用;CMP浆液

高分子

与化工行业:乳剂(油漆和粘合剂)的分散与聚集控制,乳胶表面改性(制药和工业),聚合物电解质(如苯乙烯磺酸盐和聚羧酸)功能性研究,功能性纳米颗粒:造纸和纸浆造纸工艺控制及纸浆添加剂研究

制药和食品行业

领域:乳剂(食品、香料、医用、化妆品)、蛋白质功能的分散与聚集控制;脂质体和囊泡的分散与聚集控制,表面活性剂(胶束)的功能性

核心参数:

表单字段填写内容
测量原理动态光散射 DLS(粒度测试)、电泳光散射 ELS(Zeta 电位测试)
电位值范围-200~+200mV
粒度检测范围0.6nm‑10μm
PH 应用范围2‑12(依据选配样品池有所差异)
使用温度范围0‑90℃
PH 分辨率无此项参数☑勾选
温度分辨率0.1℃
准确性粒径:±2%;Zeta 电位:±2mV
重复性粒径≤±2%;Zeta 电位≤±2mV
温度范围0‑90℃,温控精度 ±0.1℃
测量时间10‑120s,随样品状态变化
样品量范围标准池数百 μL;选配超微量池最低 3μL
电导率0‑200mS/cm(适配高盐样品,受样品池限制)

产品具体介绍

ELSZneoSE 是大塚电子台式纳米粒度及 Zeta 电位分析仪基础版本,标配完成纳米颗粒粒径与 Zeta 电位检测;分子量、粒子浓度、微流变解析、多角度粒径等功能均为选配模块,后期可硬件升级,适配不同预算的科研与工业质控需求。

仪器采用 638nm 半导体激光器搭配 APD 高灵敏度探测器,稀样至 40% 高浓度悬浮液可直接测试,很多样品无需稀释,保留样品真实分散状态。配备 0‑90℃宽域温控系统,支持温度梯度扫描,可开展蛋白变性、颗粒相变、温变稳定性等实验。

支持多种选配样品池:超微量池(3μL 珍贵样品)、高盐溶液池、固体表面 Zeta 电位池、流动循环池;流动池可实现旁路连续监测,适配工艺过程检测。

配套专业分析软件,输出粒径分布、Zeta 电位分布曲线,原始数据可 CSV 导出;可选购 FDA21CFR Part11 合规软件包,满足医药研发体系审核、论文数据归档。

版本区分

ELSZneoSE:基础主机,标配粒径 + Zeta 电位,高阶功能全部选配;

ELSZneo:顶配整机,出厂自带全部高阶功能模块。

实际案例用途

生物医药制剂:脂质体、纳米药物、外泌体、蛋白样品,检测粒径与 Zeta 电位,评估制剂储存分散稳定性,支持生理高盐环境测试。

纳米新材料研发:纳米氧化物、碳材料、量子点,评价改性、分散剂配方效果。

涂料、乳液、锂电浆料:检测浆料带电特性,预判团聚沉降风险,管控批次一致性。

半导体 CMP 抛光液:抛光颗粒粒度、电位质控,保障抛光工艺稳定性。

界面化学研究(选配固体池):薄膜、基板表面 Zeta 电位测试,评估表面改性和亲疏水带电特性。


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