OTSUKA 大塚电子 光谱椭偏仪 FE‑5000 系列

OTSUKA 大塚电子 光谱椭偏仪 FE‑5000 系列

除了能够高精度薄膜分析的光谱镜片偏度外，我们还实现了自动调节角度测量机制，能够处理各种类型的薄膜。 除了传统的旋转光度计方法外，通过引入相位差板的自动安装和拆卸机构，提高了测量精度。

特色

能够测量紫外可见光（300~800nm）波长范围内的椭圆参数。

支持对纳米级多层薄膜的薄膜厚度分析

通过多通道光谱法对400多个通道的埃利普索光谱进行快速测量

支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析。

通过添加光学常数数据库和配方注册功能提升操作性

测量项目

椭圆参数（tanψ， cosΔ）测量

光学常数分析（n：折射率，K：衰减系数）

薄膜厚度分析

测量目标

半导体晶圆：

栅氧化层薄膜、氮化物薄膜SiO

2，SixO y，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy聚硅、ZnSe、BPSG、TiN

电阻的光学常数（波长色散）

化合物半导体

x加（1-x）作为多层薄膜，非晶硅

FPD

对准膜

各种新材料：

DLC（类碳金刚石）、超导薄膜、磁头薄膜

光学薄膜

TiO2，SiO2，防反射膜

光刻场：每个波长如

g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）等各波长的n、k值

核心参数：

产品详细介绍

FE‑5000 是大塚高端科研 / 量产级光谱椭偏仪，区别普通分光膜厚仪，椭偏仪擅长解析0.1nm 级别超薄膜、多层堆叠薄膜、光学常数 n/k 色散曲线。

自动相位差板装卸：改善弱吸收薄膜、极薄氧化层的解析精度，是本机型核心优势；全自动可变入射角，不用手动拆装光路配件。

多通道高速光谱采集，可做多层膜拟合、EMA 有效介质模型分析，评估界面层、混合组分占比。

FE‑5000 支持自动载台 + 晶圆 Loader，适配半导体 8 英寸晶圆批量检测；FE‑5000S 是紧凑型桌面版本，适合研发小样品。

软件自带材料光学常数库，支持测试配方 Recipe 保存，数据自动导出。