MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10

MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10 

品牌：MIKASA（ミカサ株式会社，日本米卡萨）品名：MA-10 手动接触式掩膜对准曝光机（Mask Aligner，入门科研光刻设备）补充：MA-10B 是 MA-10 的轻量化改良版本，MA-10 为初代基础款。
日本 MIKASA 米卡萨 MA-10 接触式有掩膜对准曝光机（Mask Aligner），经济型科研手动光刻机，适配最大 4 英寸晶圆与异形不规则基板，搭载 250W g/h/i-line 宽谱紫外光源，最小加工线宽 2μm，20 倍物镜下对准精度＜2.0μm。四维手动微调载台，支持硬接触曝光，标配基板真空吸附机构与防震底座，可兼容常规光刻胶、SU-8 厚胶曝光。常搭配 MS-B150 匀胶机、ULVAC DA-60S 真空泵搭建基础光刻工艺平台，适合高校教学、基础 MEMS 器件、微流控试样研发。

核心参数表

产品特点

1. 入门经济型手动掩膜对准曝光机，MA 系列基础款，支持异形、不规则试样（玻璃、薄膜、小块样品），不止标准圆形晶圆。

2. 250W 汞灯光源，满足常规光刻胶、SU-8 厚胶曝光，适合预算有限的高校课题组。

3. 大行程手动载台，X/Y 大范围移动，方便样品更换与对位；带防误操作传感器，掩膜防脱落结构。

4. 真空吸盘可吸附硅片、玻璃、化合物半导体、柔性薄膜等多种材质基板。

实际应用案例

1. 高校本科教学、基础科研实验室，微纳加工入门光刻实验；

2. 小试样、异形基板、小尺寸 MEMS 器件、简易微流控芯片制备；

3. 光学薄膜、传感器试样、化合物半导体基础光刻研发；

4. 配套MS-B150 匀胶机组成简易光刻工艺链路：匀胶涂胶 → MA-10 曝光 → 显影。