MIKASA 米卡萨自动显影装置 M-1S

MIKASA 米卡萨自动显影装置 M-1S 

核心参数表

一、M-1S具体介绍

核心硬件参数

• ‌基板适配‌：最大支持3英寸晶圆，兼容厚度2mm以内的小尺寸方形基板，支持定制异形基板真空夹具

• ‌曝光系统‌：搭载准直型UV汞灯，覆盖g/h/i多谱线，405nm波长下曝光照度＞8mW/cm²，全工作面照度均匀性＜±8.5%

• ‌对位系统‌：标配双视场对位显微镜，支持4×、10×、20×多档物镜可选，20×物镜下对位精度可达＜1.2μm

• ‌操作模式‌：标配软接触曝光模式，可额外选配硬接触功能，自定义接触压力避免薄脆小尺寸样品被压碎

• ‌整机规格‌：紧凑型桌面式设计，无需改造实验室空间，AC220V常规市电即可直接上电运行，适配Class100级洁净室摆放要求

核心技术优势

• 机身体积小巧，掩膜夹具、工件载台更换速度快，主打小尺寸样品快速研发试样，非常适合空间有限的小型研发实验室

• 曝光光源稳定性强，长时间连续运行照度衰减率＜5%，保障批次间小尺寸微纳图形线宽一致性

• 整机维护成本低，无复杂气路水路配套要求，日常仅需定期清洁载台、更换汞灯即可长期稳定运行

二、实际应用案例

1. ‌某材料学院二维材料微纳加工实验室‌
   实验室使用M-1S进行小尺寸二维材料器件的光刻试样，利用其软接触低压力曝光模式，避免超薄二维材料薄膜被掩模版压碎，最终在3英寸硅片上实现最小1.5μm线宽的电极图形稳定制备，设备连续运行2年无重大故障，小批量试样良率稳定在85%以上。

2. ‌某MEMS传感器创业公司研发实验室‌
   该实验室采购M-1S用于微型压力传感器的光刻研发，利用其快速更换基板夹具的特性，可在1分钟内完成不同规格小尺寸传感器芯片的装夹对位，大幅提升研发试样效率，最终实现2μm线宽的传感器微结构图形稳定制备，完全满足MEMS器件早期研发的工艺需求。

3. ‌某高校微纳加工教学实验室‌
   实验室将M-1S用于本科生微纳光刻入门教学，简化后的操作流程大幅降低新手操作门槛，学生可快速完成光刻胶图形转移，在3英寸硅片上制备出清晰的微纳图形，设备故障率远低于同级别国产入门光刻机，非常适合高频次教学使用场景。