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MIKASA 米卡萨旋转式显影蚀刻装置 PD-1000
品牌：米卡萨/MIKASA
产地：日本
型号：PD-1000
400-616-7676转3323
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核心参数
应用领域
半导体、MEMS、微流控芯片、光学元件、高校微纳加工科研，光刻显影与轻度湿法蚀刻
产能
科研试样小批量，单批次 1 片，单片旋转喷淋处理
仪器介绍
MIKASA 米卡萨旋转式显影蚀刻装置 PD-1000
品牌：MIKASA（日本米卡萨，半导体光刻工艺设备）品名：PD-1000 旋转喷淋式显影蚀刻机
核心参数表
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 最大基板 | φ8 英寸晶圆，最大 200×200mm 方形基板 |
| 处理方式 | 晶圆旋转 + 固定喷嘴喷淋，支持喷雾显影、puddle 浸润工艺 |
| 基板转速 | 0～3000rpm，转速可编程控制 |
| 药液供给 | 压力罐输送，药液压力稳定可控 |
| 管路回路 | 显影液回路、DI 纯水冲洗、背面冲洗回路，3 路液路 |
| 程序控制 | 最多 48 步工序，可存储 10 组工艺配方，支持步骤复制、跳过 |
| 腔体材质 | SUS 防腐不锈钢腔体，适配碱性显影液、部分湿法蚀刻药液 |
| 安全保护 | 腔盖安全联锁、真空吸盘确认传感器、喷嘴限位保护 |
| 电源 | AC200V，三相 15A |
| 外形尺寸 | 720(W) ×500(H) ×520(D) mm |
| 整机重量 | 60kg |
| 选配 | 药液温控单元、基板专用载具、废液收集组件 |
产品特点
旋转喷淋式设计，区别于 AD 系列双摆动喷嘴，PD-1000 基板旋转，喷嘴固定，药液均匀覆盖晶圆表面，适合 SU-8 厚胶、常规正负光刻胶显影。
支持显影 + 轻度湿法蚀刻一体化，集成显影、DI 水冲洗、背面冲洗，一套设备完成光刻后湿法处理。
可编程多段工艺，转速、喷淋时长、药液供给时序自由设定，多配方一键切换，适配多试样研发。
真空吸盘兼容硅片、玻璃、化合物半导体、薄膜、方形基板。
安全联锁结构，开盖自动停止喷淋，防止药液喷溅，适合高校洁净实验室。
实际应用案例
完整光刻工艺链路：MS-B 系列匀胶机 → MA 系列掩膜对准曝光机 → PD-1000 显影蚀刻
MEMS 器件、微流控芯片、光学光栅、传感器芯片光刻胶显影、薄膜轻度湿法刻蚀
1~8 英寸科研试样、方形玻璃基板、柔性薄膜微纳加工
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