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MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10B
品牌：米卡萨/MIKASA
产地：日本
型号：MA-10B
400-616-7676转3323
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仪器介绍
MIKASA 米卡萨掩膜对准曝光机 MA-10B 
核心参数表：
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 最大基板尺寸 | φ4 英寸晶圆，支持异形 / 方形基板，基板最大厚度 2mm |
| 最大掩模版尺寸 | 5×5 英寸掩膜板 |
| 曝光光源 | 250W UV 汞灯，宽带 g・h・i 线紫外光源 |
| 曝光波长 | g/h/i 复合紫外波段 |
| 曝光分辨率 | 2μm（线宽 / 线距 L&S） |
| 照度 | ＞8mW/cm²（405nm 条件下） |
| 照度均匀性 | ＜±8.5% |
| 对准系统 | 双视野对准显微镜，物镜间距 18~60mm；20 倍物镜下显微镜分辨率 1.2μm |
| 载物台移动范围 | XY 平台 ±50mm 大范围移动，X/Y/θ/Z 四维微调；步距 0.025μm |
| 接触模式 | 软接触 / 硬接触两种模式可选 |
| 曝光计时 | 0~999.9s 可调定时曝光 |
| 真空系统 | 真空吸附基板与掩模版，真空压力 - 0.08MPa |
| 安全机制 | 平台移动传感器防误操作、掩模版防掉落抽板、限位保护 |
| 供电 | AC100~110V，50/60Hz |
| 整机重量 | 约 90kg（对比老款 MA-10 大幅轻量化） |
| 外形尺寸 | 750(W) ×600(H) ×650(D) mm |
| 选配 | 防震台、真空泵、三目镜筒、监视器、500W 高功率光源 |
产品特点
轻量化改良机型：在 MA-10 基础上减重，体积紧凑，适合实验室台面放置。
支持异形基板：不局限标准圆形晶圆，玻璃、石英、小片试样均可真空吸附加工。
双视野显微镜目视对准，操作直观；XY 大行程平台，方便样品预对位。
软 / 硬接触两种曝光模式，可根据光刻胶工艺切换，兼顾图形精度与掩膜保护。
完整配套米卡萨匀胶机（DA-60S/MS-B 系列）、M 系列显影机、ED 蚀刻机，组成完整光刻工艺线。
实际应用案例
高校微纳光刻全套工艺：匀胶（DA-60S）→ MA-10B 掩膜对准曝光 → M 系列显影 → ED 系列湿法蚀刻
MEMS 器件、微流控芯片、光学光栅、传感器、柔性薄膜光刻图形制备
化合物半导体、LED、PCB、微结构薄膜的科研工艺开发
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