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MIKASA 米卡萨旋转式显影机 AD-1200
品牌：米卡萨/MIKASA
产地：日本
型号：AD-1200
400-616-7676转3323
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核心参数
应用领域
半导体、MEMS、微流控芯片、光学元件、高校科研微纳光刻
产能
单片式，单批次 1 片；循环周期约 30~120 秒 / 片（随工艺条件变化）
仪器介绍
MIKASA 米卡萨旋转式显影机 AD-1200 
特色
支持摆动喷嘴喷雾的开发和桨叶的开发
SUS用于液体连接段，考虑化学耐受性。
通过LCD触摸面板轻松输入程序
最多可以扩展到3瓶药水
化学品、护理剂和抖动剂的持续处理
内置化学压力泵
核心参数表：
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 最大基板尺寸 | φ6 英寸晶圆（150mm），最大 150×150mm 方形基板（玻璃 / 石英 / 化合物半导体） |
| 旋转速度 | 0～3000 rpm 连续可调 |
| 旋转精度 | ±1 rpm |
| 最大加速度 | 10000 rpm/s，升降速 0.2~999.9s 可设置 |
| 工艺模式 | Puddle 水坑显影 + Swing-nozzle 摆动喷淋显影，两种模式切换 |
| 液路配置 | 标准 3 路：显影液、正面冲洗、背面冲洗；最多可扩展 3 组药液 |
| 程序存储 | 10 组工艺配方，每组最多 96 步工序，支持复制、跳过步骤 |
| 腔体材质 | 接液部位 SUS 不锈钢，耐 TMAH 碱性显影液、有机溶剂腐蚀 |
| 真空吸附 | 真空吸盘固定基板，真空确认传感器，未吸附基板禁止启动，防飞片 |
| 安全联锁 | 腔盖门联锁（运行开盖即停机）、喷嘴限位保护 |
| 操作面板 | LCD 触摸屏，工艺参数可视化编辑 |
| 供电 | AC100V 4A |
| 外形尺寸 | 550(W) ×440(H) ×400(D) mm |
| 整机重量 | 33 kg |
| 选配 | 药液温控单元、多药液压力罐、各类基板专用吸盘、废液收集单元 |
产品特点
双显影工艺一体水坑 (Puddle) 显影：基板低速旋转，药液静置覆盖基板，适合薄光刻胶、亚微米精细图形，均匀性优异； 摆动喷淋 (Spray)：喷嘴往复摆动持续喷淋，冲走反应残渣，适合厚胶、大尺寸图形。
全自动连续流程：给药显影→正反面冲洗→高速旋干，单片一次完成，减少人工转移带来的颗粒污染。
伺服主轴启停平稳，薄硅片、超薄玻璃基板不容易翘曲碎裂，非常适合 MEMS、微流控研发试样。
湿部全不锈钢耐腐蚀腔体，适配 TMAH 碱性显影液，也可兼容负胶有机溶剂显影。
洁净室小型台式设计，体积小巧，可直接放置在超净台内部，占用空间小。
整套光刻工艺配套：DA-60S/MS-B 系列匀胶 → MA-10B/MA-60F 曝光 → AD-1200 显影 → ED 系列湿法蚀刻。
实际应用案例
高校微纳光刻全套工艺：匀胶 → MA 掩膜对准曝光 → AD-1200 显影 → ED 蚀刻
MEMS 器件、微流控芯片、光学光栅、传感器芯片光刻图形制备
化合物半导体、LED、柔性薄膜、玻璃基板光刻工艺开发与样品打样
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