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Yamada山田光学高亮度 LED 光源装置 YP-250IL
品牌：YAMADA 山田光学
产地：日本
型号：YP-250IL
400-616-7676转3323
核心参数
仪器介绍
Yamada山田光学高亮度 LED 光源装置 YP-250IL 
产品简介
YP-250IL 是山田光学在 YP-250I 卤素光源基础上开发的LED 版本高亮度同轴光源，面向半导体晶圆、液晶玻璃基板、精密抛光件的宏观表面缺陷检查；用于识别划痕、雾面、研磨不均、异物、滑移等微米级表面瑕疵，替代传统短寿命卤素光源。
核心规格参数
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 光源类型 | 高亮度 LED |
| 照度 | ≥400,000 Lx（约日光 4 倍） |
| 照射光斑直径 | φ40mm |
| 标准照射距离 | 220mm |
| 光源头高度 | 229mm（相比 YP-250I 更紧凑） |
| LED 寿命 | 10,000 小时 |
| 配套电源 | LPS-250（电流式调光） |
| 调光方式 | 电流调节，光量变化线性平滑 |
| 输入电源 | AC100～240V 50/60Hz |
| 光输出波动率 | ≤1% MAX |
| 工作环境温度 | 0～40℃ |
一、完整产品介绍
1. 工作原理
同轴落射照明：光源内置分光镜，光线垂直向下照射样品；只有样品表面垂直正反射光原路返回进入观察路径，划痕、凹坑、微颗粒、雾面、滑移线会发生漫反射，不会原路返回，形成高对比度暗缺陷。
普通环形光源、斜光源很难检出镜面抛光面的极浅划痕与雾度；YP-250IL 的同轴 + 40 万 Lx 高照度，专门解决这类超光滑平面缺陷可视化。
2. 详细规格
| 项目 | 参数说明 |
|---|---|
| 产品型号 | YP-250IL（LED 型） |
| 配套电源 | LPS-250（电流式调光电源） |
| 光源类型 | 白光 LED，色温 3400K（对标 YP-250I 卤素色温，方便新旧工位直接替换） |
| 中心照度 | ≥400,000 Lx（约日光 4 倍） |
| 标准工作距离 | 220mm（灯头底面到工件表面） |
| 有效光斑 | φ40mm，光斑均匀性优秀 |
| LED 寿命 | 10,000 小时（对比 YP-250I 卤素灯泡仅 30~50 小时） |
| 调光方式 | 连续电流线性调光，支持高低照度两段切换 |
| 光波动 | 最大≤1%，长时间连续运行亮度漂移极小 |
| 冷却方式 | 强制风冷（螺旋桨风扇），内置冷反射镜，降低工件受热 |
| 输入电压 | AC100~240V 宽电压 50/60Hz |
| 灯头尺寸 | 107×229×114mm，重量约 2.94kg，φ20 安装轴，方便支架固定 |
| 工作环境 | 0~40℃，实验室 / 洁净车间环境 |
| 可检出缺陷 | 最小可识别约 0.2μm 级别划痕、微异物、抛光不均、雾度（haze）、滑移线（slip line） |
3. 核心特点
新旧工位兼容替换光路结构、照射距离、光斑大小、色温都沿用 YP-250I 设计，原有产线 / 实验室支架不用改动，直接把 YP-250I 卤素头换成 YP-250IL LED 头，检验员目视观感基本一致，不需要重新做检验标准。
大幅降低维护停机卤素版本几十小时就要更换灯泡，更换灯泡后还要重新校准照度；YP-250IL LED 寿命 10000h，洁净车间量产线可以数月甚至一年不用更换光源，减少停机、备件成本、照度校准工作量。
低热负载，保护精密工件搭配冷反射镜技术，样品受热只有传统铝反射镜卤素光源约 1/3。晶圆、薄玻璃基板、光学镀膜件不会因为长时间照射产生热变形、膜层损伤。
线性稳定调光LPS-250 采用电流调光，亮度平滑连续变化，无跳变；区别于电压调光，低亮度区间不会出现色偏，适合不同缺陷等级的比对观察，也可接入视觉相机做自动化拍照检测。
洁净室适配整机结构低粉尘，风扇气流可控，广泛用于 Class100/1000 半导体洁净检验工位。
4. YP-250IL vs YP-250I 对比
| 对比项 | YP-250IL（LED） | YP-250I（卤素） |
|---|---|---|
| 光源 | 白光 LED | 卤素灯泡 |
| 寿命 | 10000h | 30~50h |
| 调光 | LPS-250 电流调光，线性稳定 | HPS-250 电压调光 |
| 光谱 | 连续白光，缺少部分红外波段 | 全连续光谱（含红外） |
| 维护 | 几乎免维护，无需频繁换灯 | 频繁更换灯泡 + 照度校准 |
| 发热量 | 更低 | 较高 |
| 适用场景 | 长时间量产连续检验、自动化视觉 | 实验室样品分析，需要全光谱红外场景 |
二、实际行业案例 & 用途（详细落地场景）
案例 1：半导体 8 寸 / 12 寸硅晶圆抛光后目视终检（最主流应用）
用途：CMP 化学机械抛光后的裸硅晶圆外观检验，检出抛光划痕、微小颗粒异物、抛光不均、雾面 Haze、晶体滑移线 Slip Line。
工位形式：洁净台人工目视抽检，也可固定在龙门支架，配合相机做自动化拍照复检。
痛点：抛光晶圆镜面反光极强，普通光源看不见浅划痕；低照度光源下雾面缺陷极易漏检。
使用效果：φ40mm 光斑刚好覆盖晶圆局部区域，40 万 Lx 高照度把 0.2μm 级细微划痕显现；YP-250IL 长寿命适合 24h 量产车间，不用频繁停机换灯泡。
检验动作：操作人员移动光源，逐区域扫描晶圆表面，判定缺陷等级，区分可返工 / 报废晶圆。
案例 2：LCD/OLED 液晶玻璃基板、载板抛光面检验
用途：玻璃基板研磨抛光工序、清洗后检查，识别表面划伤、研磨斑纹、水渍残留、微小污染点、基板雾状缺陷。
场景：面板厂洁净车间来料检验、制程中间抽检、成品出库检验。
难点：超薄玻璃基板受热容易翘曲变形，卤素灯长时间照射会导致基板轻微形变，影响判定；YP-250IL 低热特性，长时间照射基板变形风险大幅下降。
案例 3：光学元件行业：光学镜片、蓝宝石窗口、碳化硅衬底抛光面质检
用途：光学抛光元件、蓝宝石盖板、SiC 功率器件衬底的表面缺陷检查；抛光麻点、划痕、抛光残留、表面雾度。
场景：光学加工厂来料检验、成品出厂检验。
优势：同轴照明，曲面小镜片也可以调整工作距离，观察抛光面微观瑕疵。
案例 4：精密金属超抛光件：硬盘盘片、精密模具镜面抛光面检查
用途：硬盘铝基板、精密注塑模具镜面抛光表面，检查抛光纹路、细微划痕、抛光麻点。
这类镜面金属，普通侧打光源只会看到反光，无法分辨浅划痕；同轴高照度光源是行业经典目视检查方案。
案例 5：实验室失效分析（FA）
半导体失效分析实验室，对芯片、晶圆做失效观察，定位异物、划痕、表面损伤；做缺陷对比拍照，留存证据。
实验室如果不连续长时间开机，很多客户依然保留 YP-250I 卤素；量产产线优先 YP-250IL。
三、使用注意事项（现场客户经常踩坑点）
照射距离必须固定 220mm：照度数据是在 220mm 标准距离测得，距离变大照度快速下降，缺陷检出能力下降，检验标准失效。
光斑 φ40mm，大尺寸工件需要移动光源分区域扫描，不能一次性照亮整片晶圆。
洁净室使用：灯头光学窗口需要定期无尘擦拭，灰尘附着会造成伪缺陷干扰判断。
光谱差异：LED 无红外波段，如果原检验标准依赖红外缺陷识别，不能直接替换 YP-250I 卤素。
安装支架：标准 φ20 安装轴，市面有配套立柱支架，可手动升降调节高度。
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