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品牌:FLUORO福乐
产地:日本
型号:FV-30
400-616-7676转3323
仪器介绍
FLUORO 福乐内置 HEPA 无油隔膜真空泵FV-30 
通过将隔膜安装在密封空间中,压力分两阶段降低,结构实现平行,从而实现比FV-10更高的真空压力机构。
进气和排气区安装了HEPA过滤器。 它也可以用于无尘室。 此外,过滤器可以通过主体的透明窗口直观查看,因此你也能知道何时更换它。
处理范围大约在6英寸左右,适用于落在自身重量以下的物品,甚至相当于硅晶圆。
管子可以制成Φ3×5和Φ4×6两种尺寸。
随附的管子是Φ3×5。
FV-30 为洁净室专用小型干式无油电磁隔膜真空泵,整机内置进出气 HEPA 过滤器,不需要外接空压机,通电即可提供稳定负压。外壳防静电尼龙材质,可搭建完整 ESD 防静电拾取系统,适配半导体、光电行业无尘车间 Class100~1000 环境。主要用于手动真空吸笔拾取硅片、碳化硅、光学基板、芯片等工件,可长时间连续运行。
极限负压:-40kPa(-300mmHg),负压连续可调
流量:2.5 L/min
功耗:5.0W,低功耗
外形尺寸:137 × 88 × 85 mm
重量:800g
驱动:电磁隔膜无油结构,PTFE 涂层隔膜
过滤:进气 + 排气双路 HEPA 过滤器,对 0.3μm 颗粒过滤效率 99.97%,带滤芯可视观察窗
连续工作寿命:≥8760 小时
适用晶圆:最大支持6 英寸晶圆
供电版本:FV-30-110(AC100V);FV-30-240(AC220V,国内选用)
配套吸笔:F001、F002、C001、C002;兼容 41 硅橡胶吸盘、66 多孔、99 Y 型 PEEK 吸嘴
负压更强,兼顾厚片 / 较重工件对比 FV-10 最高 - 14kPa,FV-30 可达 - 40kPa,拾取 6 寸厚硅片、碳化硅衬底、较重光学基板时吸力充足,不容易掉片;负压旋钮连续可调,依然可以调低吸力用于薄片,一机多用。
自带双 HEPA 滤芯,洁净等级更高进气 HEPA 阻挡粉尘、微量药液雾滴进入泵体保护隔膜;排气 HEPA 防止泵内部微粒排入洁净车间。透明视窗,肉眼直接判断滤芯是否脏污,维护简单。
无油干式,防静电壳体泵内部无润滑油,无油雾污染晶圆;整机防静电尼龙外壳,搭配原厂导电气管、防静电吸嘴,抑制静电,保护光刻图形晶圆、敏感器件,防止静电击穿。
连续长时间稳定运行电磁直驱隔膜,无齿轮摩擦损耗,适合产线检验工位 24 小时不间断工作;日常维护仅定期更换 HEPA 滤芯。
小巧桌面安装,免空压机体积紧凑,直接放置显微镜、探针台、外观检测工作台,仅接市电,省去空压机、储气罐、复杂管路。
使用限制: 不适合 8 寸 / 12 寸大晶圆(推荐 FV-60);不适合大量强腐蚀药液蒸汽长时间吸入;仅支持单支真空吸笔使用。
半导体:4/5/6 英寸硅片、碳化硅 SiC 衬底手动取样、外观检测
光电行业:厚蓝宝石、石英基板、陶瓷载片拾取转移
实验室研发:较重样品、厚衬底转移,兼顾薄片柔性拾取
封装测试:较大尺寸晶粒、基板人工拾取
无尘检验工位:搭配 F001 真空吸笔,组成整套手动晶圆拾取系统
背景第三代半导体实验室,6 寸 SiC 碳化硅衬底,衬底重量大于普通硅片;原 FV-10 负压不足,取片容易滑落;车间 Class100 洁净,要求防静电、无油污染。解决方案FLUORO FV-30(FV-30-240)+ F001 防静电真空吸笔 + 66 导电 PEEK 多孔吸嘴。实施效果FV-30 足够负压稳定抓取较重碳化硅衬底;双 HEPA 过滤保障洁净环境;整套 ESD 系统保护衬底器件,无静电损伤;可连续全天作业,仅定期更换滤芯。
背景光学产线,厚石英基板人工转移检测,基板较重,干式取片,不允许表面污染。方案FV-30 + F002 吸笔 + 41 硅橡胶吸盘。效果高负压保证抓取稳定;软硅橡胶吸盘保护光学抛光面,不会产生划痕;无油设计满足洁净管控。
六、FV 系列选型横向对比
| 型号 | 极限负压 | 流量 | 适用晶圆 | 定位 |
|---|---|---|---|---|
| FV-10 | -14kPa | 2.8 L/min | ≤6 英寸轻薄薄片 | 柔和吸力,超薄裸硅片,实验室小样品 |
| FV-30 | -40kPa | 2.5 L/min | ≤6 英寸厚片 / 较重衬底 | 通用主力,SiC、厚基板,吸力更强 |
| FV-60 | -80kPa | 2.5 L/min | 8/12 英寸晶圆 | 高真空,大尺寸晶圆 |
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