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品牌:FLUORO福乐
产地:日本
型号:FV-60
400-616-7676转3323
仪器介绍
FLUORO 福乐高真空内置 HEPA 无油隔膜真空泵 FV-60 
FV-60 为洁净室专用干式无油电磁隔膜真空泵,整机进气 + 排气双路 HEPA 过滤器,透明观察窗口,可目视滤芯污染程度。无油结构,无油雾污染风险;整机防静电外壳,可搭建完整 ESD 防静电晶圆拾取系统。通电直接产生高负压,无需空压机,桌面式安装,适配 F001/F002/C001/C002 全系列真空吸笔,兼容 41 硅橡胶吸盘、66 多孔、99 Y 型导电 PEEK 吸嘴,是 8/12 寸晶圆实验室、外观检验、探针台工位主力真空源。
极限负压:-80kPa(-600mmHg),负压连续可调
流量:2.5 L/min
功耗:10.0W
外形尺寸:137 × 88 × 133 mm
整机重量:1250g
驱动:电磁隔膜无油结构,PTFE 涂层隔膜,可连续长时间运转
过滤:进出气双 HEPA,0.3μm 过滤效率 99.97%,滤芯可视窗口
设计耐久寿命:≥8760 小时
适用晶圆:8 英寸、12 英寸硅片、碳化硅、氮化镓大尺寸衬底
供电版本:FV-60-110(AC100V);FV-60-240(AC220V,国内选型)
配套吸笔:F001、F002、C001、C002;全部吸嘴通用
FV 系列最高真空度,支持 8/12 寸大晶圆FV-10 最大 - 14kPa、FV-30 最大 - 40kPa,FV-60 可达-80kPa,12 英寸整片大晶圆、厚碳化硅衬底、翘曲大尺寸基板也能稳定吸附不掉片;负压旋钮无级可调,调低负压也可以拾取薄片,兼顾柔性保护。
双 HEPA 过滤,高等级洁净室适配进气 HEPA 阻挡粉尘、微量药液蒸汽进入泵体,保护隔膜;排气 HEPA 防止泵内微粒释放到洁净车间。透明窗口直观查看滤芯脏污状态,维护简单,满足 Class10~1000 无尘车间。
无油干式 + 防静电整机泵腔无润滑油,杜绝油雾污染抛光晶圆、光刻图形;防静电尼龙外壳,搭配原厂导电气管、防静电 C 系列吸笔、导电 PEEK 吸嘴,整套 ESD 系统,保护器件免受静电击穿。
桌面免空压机,连续长时间运行直接接市电,无需空压机储气罐;电磁驱动结构无齿轮磨损,支持产线检验工位全天连续工作,日常维护仅定期更换 HEPA 滤芯。
使用限制: 流量固定 2.5L/min,单支吸笔使用;如需同时驱动多支吸笔,选型升级 FV-XP;不适合长期大量强腐蚀药液蒸汽吸入。
半导体:8 寸、12 英寸硅片、SiC/GaN 第三代半导体大衬底,人工取样、外观检验、探针台上下料
光电行业:大尺寸蓝宝石、石英厚基板、大陶瓷载片拾取转移
中试产线、研发实验室:大尺寸晶圆手动转移,兼顾厚片与薄片
晶圆划片、贴膜、清洗后人工干式取样
搭配 F001/C002 真空吸笔,构成完整 12 寸晶圆手动拾取系统
背景半导体研发中心,12 英寸裸硅片外观人工抽检,晶圆面积大、自重更高;原 FV-30 负压不足,大晶圆边缘容易漏气、掉片;车间 Class100 洁净,ESD 管控严格,不能有油雾污染。解决方案FLUORO FV-60-240 + C002 防静电真空吸笔 + 66 导电 PEEK 多孔吸嘴。实施效果FV-60 高负压保证整片 12 寸晶圆稳定吸附;双 HEPA 维持洁净环境;整套 ESD 防静电,保护晶圆光刻图形;可全天连续运行,仅定期更换滤芯。
背景第三代半导体实验室,8 寸 SiC 衬底,衬底重量大、部分存在轻微翘曲,需要足够负压保证密封;干式取片,洁净度要求高。方案FV-60 + F002 吸笔 + 99 Y 型导电 PEEK 吸嘴效果高负压补偿基板翘曲带来的漏气,抓取稳定;硬质 PEEK 耐微量药液蒸汽,适合湿法后干式取样,无颗粒污染。
| 型号 | 极限负压 | 流量 | 适用晶圆 | 产品定位 |
|---|---|---|---|---|
| FV-10 | -14kPa | 2.8 L/min | ≤6 英寸轻薄薄片 | 柔和吸力,超薄裸硅片、小样品,实验室 |
| FV-30 | -40kPa | 2.5 L/min | ≤6 英寸厚片 / 较重衬底 | 通用主力,SiC、厚基板,吸力中等 |
| FV-60 | -80kPa | 2.5 L/min | 8/12 英寸大晶圆 | 高真空旗舰,大尺寸整片晶圆拾取 |
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